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    VENA-300

    VENA-300

    詳細介紹

     VENA系列自動匹配器用于真空鍍膜、等離子刻蝕、等離子清洗、物理氣象沉積,化學氣象沉積,磁控濺射,以及太陽能制造設備PECVD等設備當中,主要功能是實現(xiàn)全自動匹配,解決了現(xiàn)在國內真空鍍膜設備中的一個技術空缺;具有自動,快速,可靠,高效,準確,節(jié)省人力和時間等特點??蛇x的射頻系統(tǒng)檢測模塊可實時檢測出系統(tǒng)的正反功率、駐波比、射頻信號峰值電壓、電流、直流偏置電壓等,從而使您能夠發(fā)現(xiàn)并顯著降低制程變化性。

    優(yōu)勢

    ●性能安全可靠,長時間工作穩(wěn)定
    ●實時反射功率測量與控制
    ●優(yōu)化設計、安裝、使用與維修十分簡便
    ●傳輸效率高,運行噪音小
    ●屏蔽效果好
    ●可外接匹配控制盒,與其他射頻功率發(fā)生器配合使用

    特點

    ●加強了鍍膜與刻蝕工藝的控制
    ●優(yōu)化的匹配算法加速匹配時間
    ●最大限度地減少駐波比與反射功率
    ●嚴格的可靠性測試

    使用參數(shù):

    匹配功率范圍

    0-300W

    工作頻率:

    13.56MHZ

    正常工作反射功率

    <3W

    匹配時間

    <3S

    傳輸效率

    >90%

    匹配器電源

    AC220V/50-60HZ

    輸入連接器

    N型

    輸出連接器

    UHF

    控制模式

    手動/自動

    可設預置點數(shù)

    7

    匹配阻抗范圍

    實部0-80Ω 虛部-j200-j200(可根據(jù)負載調節(jié)阻抗)

    匹配器尺寸

    340X230X130MM

    整機重量

    5.5KG

    冷卻方式

    強制風冷

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